2025年第九届制造技术国际会议(ICMT 2025)
会议时间:
2025年1月13日至17日
2025年1月13日至17日
会议地点:
美国 佐治亚州亚特
美国 佐治亚州亚特
检索机构:
EI,Scopus
EI,Scopus
欢迎来到第九届ICMT
欢迎访问官方 2025年第九届国际制造技术大会(ICMT 2025)网站。会议将于 2025 年 1 月 13 日至 17 日在美国佐治亚州亚特兰大举行。 ICMT 2025由美国佐治亚理工学院和南亚科学与工程学院共同主办,美国圣路易斯华盛顿大学、射频MEMS传感器组和美国南佛罗里达大学无线与微波信息系统中心(WAMI中心)支持。ICMT 2025 的目的是展示与制造技术主题相关的科学家的最新研究和成果。本次会议为不同领域的代表提供了面对面交流新思想和应用经验的机会,建立了业务或研究关系,并为未来的合作寻找全球合作伙伴。我们希望会议成果对这些最新科学领域的知识做出重大贡献。
制造工程与技术是一个多样化且具有挑战性的领域,随着新生产方法的出现,它变得越来越重要。与此同时,我们的现代社会已经进入了知识时代和经济时代。知识的创造、生产和传播对社会的进步有着越来越大的影响。该会议无疑建立了一个伟大的模式,并在收集、构建和培养制造工程和技术领域的新知识方面发挥了作用。
出版
被录用和注册的论文将作为论文集发表在《机械工程讲义》中 书卷。施普林格将对 被接受的论文,只有通过这些检查的论文才会被接受 被发布。被 Ei Compendex 和 Scopus 索引。所有出版的书籍 在系列中提交以供考虑 科学。
征稿启事
提交感兴趣的主题包括但不限于:
机械原理与工程:
● 机械行为与断裂
● 机械动力学及其应用
● 机械可靠性理论和 工程
● 振动、噪声分析与控制
● 动力和流体机械
● 能源机械和设备
● 铸造、锻造和焊接
● 机械传动
● 液压和气动传动
● 液压控制阀
● 表面粗糙度
● 机械加工技术与工艺
● 加工生产率和技术 分析
● 压力表和开关
先进制造和工业自动化:
● 数控 机床和设备
● 电气 放电加工
● 超声波 机械加工
● 质量 控制
● 制造 和生产工艺
● 先进 材料制造
● 制造业 设备与自动化
● 建 模 制造分析与仿真 工艺
● 高速/精密加工和 检测技术
● 激光 加工技术
● 生产 工艺与技术
● 计算机辅助 工艺设计
● 装配和 工艺方法
● 机械加工 质量
材料设计与分析:
● 复合材料
● 微纳材料
● 钢和铁
● 陶瓷
● 金属合金材料
● 高分子材料
● 光学/电子/磁性材料
● 薄膜
● 表面工程/涂层
● 材料成型、机加工
● 复合材料辅助
材料设计 ● 模具材料测试和评估
● 材料
微波加工 ● 氢能与燃料电池科学、工程 &技术
主旨演讲嘉宾
Ramesh K. Agarwal 教授 (IEEE、AAAS、AIAA、APS、ASME、CSAA、SME 和 ASEE 院士)
William Palm 美国圣路易斯华盛顿大学工程
学教授
Ramesh K. Agarwal教授是圣路易斯华盛顿大学机械工程和材料科学系的William Palm工程学教授。从1994年到2001年,他是堪萨斯州威奇托州立大学山姆·布卢姆菲尔德杰出教授和国家航空研究所执行主任。从1978年到1994年,他在圣路易斯的麦克唐纳道格拉斯研究实验室担任项目主任和麦克唐纳道格拉斯研究员。Agarwal 博士于 1975 年获得斯坦福大学航空科学博士学位,1969 年获得明尼苏达大学航空工程硕士学位,1968 年获得印度理工学院机械工程学士学位。在四十年的时间里,Agarwal教授在计算科学和工程的各个领域工作 - 计算流体动力学(CFD),计算材料科学和制造,计算电磁学(CEM),神经计算,控制理论和系统,以及多学科设计和优化。他是 500 多篇期刊和会议出版物的作者和合著者。他曾在全球50多个国家的各种国家和国际会议上发表过许多全体会议、主题演讲和受邀演讲。Agarwal 教授继续在许多学术、政府和工业咨询委员会任职。Agarwal 博士是电气和电子工程师协会 (IEEE)、美国科学促进会 (AAAS)、美国航空航天学会 (AIAA)、美国物理学会 (APS)、美国机械工程师学会 (ASME)、英国皇家航空学会、中国航空航天学会 (CSAA)、制造工程师学会 (SME) 和美国工程教育学会 (ASEE) 等 18 个学会的会员。由于他的研究贡献,他获得了各种专业协会和组织的许多享有盛誉的荣誉和国家/国际奖项。
投稿方式
1. 全文(发表和发表)
被录用的论文全文将受邀在会议上作口头报告,并在会议论文集上发表。
2. 摘要(仅供发表)
被录用的摘要将邀请在会议上作口头报告,报告将不予发表。
请登录电子投稿系统提交您的完整论文和摘要。
有关会议的任何查询,请随时通过以下方式与我们联系:icmt@saise.org。
页面要求
▶ 每篇论文的篇幅通常不少于8页(最好10页,最多20页),包括所有图表、表格和参考文献。
▶ 一个常规注册是在十页内。额外的页面将收取费用。
▶ 被接受的全文将在之前进行相似性检查 出版。相似度指数在30%以上的论文可能无法通过 最后检查。
▶ 论文中的所有表格和图表应为原创且 未发布。否则,作者必须提交“许可” 申请表格“以作刊登用途
提交请求
所有提交的文章都应报告原创的、以前未发表的研究结果、实验性或理论性研究成果。提交给会议的文章应符合这些标准,不得考虑在其他地方发表。我们坚信,道德操守是任何学者最重要的虚拟。因此,任何剽窃行为都是完全不可接受的学术不端行为,是不能容忍的。如果发现作者有抄袭行为,将采取以下处分行为:
1.拒绝提交的文章或从最终出版物中删除该文章。
2. 向其主管和所属机构举报作者的违规行为
3.向适当的学术道德监督办公室和研究资助机构报告作者的违规行为。
4.保留公布剽窃者的作者姓名、文章标题、关联机构名称、剽窃者不当行为详情等的权利”。
联系我们
Kathy Lee
女士,ICMT会议秘书
电话: +1-669-900-4528
电子邮件 : icmt@saise.org
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